GSIクレオス 中国NSIGへ資本参加 半導体関連事業拡大

GSIクレオス 中国NSIGへ資本参加 半導体関連事業拡大

GSIクレオス(本社:東京都千代田区)は４月24日、半導体前工程(ケイ素材料業界および集積回路業界)への投資を中心業務とする上海硅産業集団股份有限公司(所在地:中国・上海市、National Silicon Industry Group Co.,Ltd. 以下、NSIG)の第三者割当増資を引き受け、増資後発行済み株式の0.49％を取得したと発表した。出資金額は3,175万9,000元(約5.2億円)。これにより、同社傘下企業との業務提携関係を強化し、日本および中国における同社半導体関連事業の拡大を目指す。
NSIGは、中国の国有資産を主として、2015年12月に設立された会社。傘下企業は、中国や欧州市場を中心とするハイエンドの半導体ウエハーメーカーや、集積回路材料メーカーで構成されており、世界で高いシェアを占めている。