昭和電工(本社:東京都港区)は１月８日、電子材料用高純度ガス事業強化のため、上海の製造拠点、上海昭和電子化学材料有限公司(以下、SSE)の隣接地に第二工場用地を取得し、高純度N2O(亜酸化窒素)および高純度C4F8(オクタフルオロシクロブタン)の製造設備と、高圧ガス危険物倉庫を建設すると発表した。第二工場の稼働は2021年下半期を予定。高純度N2Oは主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度C4F8は主にその酸化膜の微細加工(エッチング)などに使用される特殊ガス。SSE第二工場の面積は約１万㎡。高純度N2O年産能力1,000トン、高純度C4F8年産能力600トンの設備を建設する予定。今回の投資額は、台湾での高純度C4F8年産能力150トンの製造設備の新設分(2020年春稼働を予定)を含め約30億円。